Method for manufacturing thin-film magnetic head



PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a thin-film magnetic head higher in accuracy by accurately forming a lift-off pattern used when the read element of the thin-film magnetic head is formed and suppressing a manufacturing variance of the thin-film magnetic head. SOLUTION: This method includes: a step of stacking a reflection preventive film 20 made of a film material not dipped in a developer for developing a resist film 30 stacked on a magnetoresistive effect film 12, and the resist film 30 made of a resist material bear with the treatment of ashing the reflection preventing film on the magnetoresistive effect film 12; a step of forming a resist pattern 30a by exposing and developing the resist film 30; a step of ashing the reflection preventive film 20 and constituting a peaked lift-off pattern 22 of the ashed reflection preventive film 20a and the resist pattern 30a; and a step of using the lift-off pattern 22 to execute ion milling and forming an insulating film. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
【課題】 薄膜磁気ヘッドのリード素子を形成する際に使用するリフトオフパターンを精度よく形成することを可能とし、薄膜磁気ヘッドの製造上のばらつきを抑えて、より高精度の薄膜磁気ヘッドを製造可能とする。 【解決手段】 磁気抵抗効果膜12上に、その上に積層されるレジスト膜30を現像する現像液によっては侵されない膜材料からなる反射防止膜20と、該反射防止膜をアッシングする処理によって侵されないレジスト材からなる前記レジスト膜30とを積層して形成する工程と、前記レジスト膜30を露光および現像してレジストパターン30aを形成する工程と、前記反射防止膜20をアッシングし、アッシングされた反射防止膜20aと前記レジストパターン30aとでひさし形状のリフトオフパターン22を形成する工程と、該リフトオフパターン22を利用して前記イオンミリングを施し、また前記絶縁層を成膜することを特徴とする。 【選択図】 図1




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    US-8470189-B2June 25, 2013Tdk CorporationMethod of forming mask pattern, method of forming thin film pattern and method of forming magnetoresistive element